Name: Analisador de gás de processo a laser in situ Tipo transmissor KGD - MQ - 507 Para medir a concentração de gás
Brand: Xi'an Kacise Optronics Co.,Ltd.
SKU: KGD-MQ-507
Price: 72.00 USD
Availability: InStock

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Analisador de gás de processo a laser in situ Tipo transmissor KGD - MQ - 507 Para medir a concentração de gás

Analisador de gases de processo a laser de tipo transmissor

Analisador de gases de processo a laser in situ

KGD - MQ - 507 Analisador de gases de processo a laser

Lugar de origem:

China

Marca:

KACISE

Certificação:

Número do modelo:

KGD-MQ-507

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Analisador de gás de processo a laser in situ Tipo transmissor KGD - MQ - 507 Para medir a concentração de gás

Detalhes do produto

Measured Components:

H₂S, O₂, CO, CO₂, CH₄

Measurement Principle:

TDLAS

Installation Method:

In - situ Installation

Accuracy:

≤ ±1%F.S.

Destacar:

Analisador de gases de processo a laser de tipo transmissor

Analisador de gases de processo a laser in situ

KGD - MQ - 507 Analisador de gases de processo a laser

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Descrição do produto

Analisador de gás de processo a laser in situ Tipo transmissor KGD-MQ-507 para medição da concentração de gás

Atributos do produto

Atributo	Valor
Componentes medidos	H2S, O2, CO, CO2, CH4
Princípio de medição	TDLAS
Método de instalação	Instalação in situ
Precisão	≤ ± 1% F.S.

Descrição do produto

Analisador de gases de processo a laser in situ (tipo transmissor) KGD-MQ-507 para medição da concentração de gases

Introdução ao produto

O analisador de gás de processo a laser in situ KGD-MQ-507 é um instrumento de análise óptica de alto desempenho baseado na tecnologia de Espectroscopia de Absorção a Laser de Diodo Tunável (TDLAS).Adota um desenho transmissor e pode ser utilizado para controlo de gases de processo industrialCom um tempo de resposta rápido, geralmente calculado em segundos para medições in situ,Evitar o atraso de tempo causado pela medição do tipo de amostragem e reflectir prontamente a concentração do gás medido on-line.

Características do produto

A utilização da tecnologia TDLAS não afeta o gás medido pela interferência cruzada dos gases de fundo.
Instalação in situ, não é necessário um sistema de pré-tratamento de amostragem.
Resposta rápida (T90 ≤ 1s), que pode reflectir a concentração de gás em tempo real.
Medição em linha em tempo real, com menos distorção da concentração de gás e elevada precisão de medição.
Tem boa adaptabilidade em ambientes de medição adversos, tais como alta temperatura, poeira alta, alta umidade, alta corrosão e alta velocidade de fluxo.
Design à prova de explosão e à prova de chama, com um elevado fator de segurança.
Estrutura simples, sem partes móveis, sem partes consumíveis, e livre de manutenção.

Parâmetros técnicos

Parâmetros de desempenho
Componentes medidos	H2S, O2, CO, CO2, CH4
Princípio de medição	TDLAS
Método de instalação	Instalação in situ
Faixa de ensaio	H2S: 0 - 100 ppm, 0 - 5000 ppm O2: (0 - 5) %VOL (pode ser personalizado para 100%) CO: (0 - 100) %VOL CO2: (0 - 100) %VOL CH4: (0 - 20) %VOL
Precisão	≤ ± 1% F.S.
Repetitividade	≤ ± 1%
Drift de espaçamento	≤ ± 1% F.S.
Resolução	0.01%VOL
Tempo de resposta	T90 ≤ 1s
Parâmetros de funcionamento
Grau à prova de explosão	Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80°C Db
Temperatura ambiente	(-20 - +60) °C
Fornecimento de energia operacional	24V DC, 24W
Gás de depuração	(0,3 - 0,8) MPa Nitrogénio industrial
Sinais de interface
Comunicação	RS485, RS232
Modo de saída	Saída de 2 vias 4-20mA, saída de relé 3 vias

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